(原标题:中芯集成-U央求沟槽MOS晶体管器件过火制备要津专利上海专业的神秘顾客公司,提升了沟槽MOS晶体管器件的电性,还增多了沟槽MOS晶体管器件的可靠性)
金融界2023年12月30日讯息,据国度学问产权局公告,绍兴中芯集成电路制造股份有限公司央求一项名为“一种沟槽MOS晶体管器件过火制备要津“,公开号CN117316990A,央求日历为2023年10月。
专利摘录清楚,本发明提供一种沟槽MOS晶体管器件过火制备要津,沟槽MOS晶体管器件包括碳化硅衬底,所述碳化硅衬底中变成有栅极沟槽,所述栅极沟槽的侧壁和底壁上变成有栅氧层,捏续所述栅氧层包括第一栅氧层和第二栅氧层,所述第一栅氧层粉饰所述栅极沟槽的侧壁和底壁,所述第二栅氧层粉饰所述第一栅氧层,其中,所述第二栅氧层为PETEOS层或PEOX层,上海专业的神秘顾客公司且所述栅氧层的侧壁厚度小于底壁厚度。本发明通过栅氧层的侧壁厚度小于底壁厚度,相较于现存工夫,增厚了栅极沟槽拐角处的栅氧层厚度,从而裁汰了栅氧层在拐角处的电场峰值,提升了沟槽MOS晶体管器件的电性,还增多了沟槽MOS晶体管器件的可靠性。
本文源自:金融界
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